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溅射辅助微波等离子体化学气相沉积SiCN晶体 万军;马志斌;曹宏;吴振辉;汪建华 【期刊名称】《新型炭材料》 【年(卷),期】2010(25)1 【摘 要】在微波等离子体化学气相沉积系统中,利用脉冲氮离子束溅射二氰二氨靶产生的碳氮粒子作为合成前驱物,在石英玻璃基片上研究了SiCN晶体的合成.用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)研究了基片温度对薄膜的形貌、成分和结构的影响.结果表明:随着基片温度的降低,沉积物由截面为六方形的结晶良好的SiCN晶体(800℃)变成发育不完全的聚片状晶体(700℃),直到变成颗粒细小的无定形碳氮薄膜(550℃).衍射峰的强度以及晶胞参数a和c的值随温度的降低而减小.薄膜为C原子部分取代Si_3N_4中的Si原子位置而形成的SiCN晶体,其中N原子主要与Si原子结合,C原子以sp~3C-N、sp~2C=N和sp~2C=C键的形式存在.降低基片温度有利于提高薄膜中的C含量和sp~3C-N键的含量. 【总页数】5页(P48-52) 【作 者】万军;马志斌;曹宏;吴振辉;汪建华 【作者单位】武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073 【正文语种】中 文 【中图分类】O484.1 【相关文献】 1.溅射工艺对SiCN薄膜沉积及光性能的影响 [J], 肖兴成;宋力昕;江伟辉;彭晓峰;胡行方 2.溅射功率对MgZnO薄膜晶体管性能的影响 [J], 岳廷峰;高晓红;刘建文;付钰;孟冰 3.微波等离子体化学气相沉积制备碳氮晶体薄膜 [J], 江锦春;程文娟;张阳;朱鹤孙;沈德忠 4.微波等离子体化学气相沉积制备SiCN结晶膜及SiCN微米棒阵列(英文) [J], 程文娟;张阳;江锦春;朱鹤孙 5.石英衬底上溅射制备纳米SiCN薄膜 [J], 林洪峰;谢二庆;张军;颜小琴;陈支勇 因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买 本文来源：https://www.dywdw.cn/9ba8889f87254b35eefdc8d376eeaeaad1f316a4.html
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2022-12-05
